光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,接触式光刻等多种光刻技术.光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!一种具有保护环的光刻板,包括光刻板本体和设置在光刻板本体外圈的保护环,所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起,所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔,所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处,掩膜板,所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘,所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。 掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版(光掩膜基版)由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上从而制作成掩膜版。根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和苏打掩膜版为高校和科研院所光刻时所常用的光刻掩膜版。 上海掩膜板-光刻板由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司()坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支的员工队伍,力求提供更好的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。苏州制版——您可信赖的朋友,公司地址:苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室,联系人:马经理。 产品:苏州制版供货总量:不限产品价格:议定包装规格:不限物流说明:货运及物流交货说明:按订单