金属的化学抛光,常用、磷酸、硫酸、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钥、钥合金,碳钢及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室温到90℃,时间自数秒到数分钟,要根据材料、溶液成分经实验后才能确定值。半导体材料的化学抛光,如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后,还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
抛光时间。要得到好的抛光效果,就需要花费一定的时间。若抛光时间太短,只能获得没有光泽的梨皮状表面。若时间过长,不仅溶解损失增大,而且加工表面会出现污点或斑点。因此存在着一个适当的时间范围,它受材料、抛光液的组成及抛光温度等因素的影响,通常难以预测,除用实验测定外,没有其他方法。化学抛光中往往产生氢气,这是抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。另外,抛光液温度高达100~200℃时,抛光剂,还会产生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响减小到,就必须在适宜的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。
是以硫酸为载体,在适宜的温度范围内进行化学抛光,通常情况下、(或),抛光过程即完成化学抛光方法,将欲抛光的不锈钢在此溶液中浸泡,当溶液呈现绿色时、代替相应的酸,抛光剂哪家好,先将这些盐类溶于溶有淀粉的水溶液中,抛光剂生产商,然后再将此欲抛光的材料浸入硫酸溶液中,使其表面附着一层溶有上述盐类的淀粉层,用氯化钠化学抛光,一般使用或磷酸等氧化剂溶液,在一定的条件下,使工件表面氧化,此氧化层又能逐渐溶人溶液,表面微凸起处氧化较快而较多,抛光剂价格,而微凹处则被氧化慢而少。同样凸起处的氧化层又比四处更多、更快地扩散,溶解于酸型溶液中,因此使加工表面逐渐被整平,达到改善工件表面粗糙度或使表面平滑化和光泽化的目的。化学抛光可以大面或多件抛光薄壁、低刚度工件,可以抛光内表面和形状复杂的工件,不需要外加电源、设备,操作简单、成本低。其缺点是化学抛光效果比电解抛光效果差,抛光过程中会产生氮氧化合物等环境污染物,而且抛光液用后处理较麻烦
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