卧式磁控溅射镀膜机
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容,沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控溅射产品,欢迎新老客户莅临。
主要用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电
磁控溅射仪公司
卧式磁控溅射镀膜机
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容,沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控溅射产品,欢迎新老客户莅临。
主要用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
磁控方箱生产线介绍
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
技术指标: 极限真空度6.7×10-5Pa,系统漏率:1×10-7PaL/S; 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa(短时间暴露 大气并充干燥氮气后开始抽气)
镀膜方式:磁控靶为直靶,向下溅射成膜; 样品基片: 负偏压 -200V
样品转盘:在基片传输线上连续可调可控,在真空下可轮流任意靶位互换工作。样品转盘由伺服电机驱动,计算机控制其水平传递;
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统,计算机控制系统的功能:对位移和样品公转速度随时间的变化做实时采集,对位移误差进行计算,以曲线和数值显示。样品公转速度对位移曲线可在线性和对数标度两种显示之间切换,可实现换位镀膜。
以上就是为大家介绍的全部内容,希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射产品的知识,欢迎拨打图片上的热线联系我们。
自动磁控溅射系统有哪些特点?
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品,我们为您分析该产品的以下信息。
自动磁控溅射系统产品特点:
不锈钢腔体
晶振夹具具有的<1 的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下的载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片
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