在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和性，降低表面的摩擦系数，提高
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在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。
首先，带有正电位的引弧针（阳极）靠近带有负电位的靶材（阴极），阴阳两极距离足够小时，两极间的气体会被击穿，形成弧电流，这与电焊的引弧相类似。首先，带有正电位的引弧针（阳极）靠近带有负电位的靶材（阴极），阴阳两极距离足够小时，两极间的气体会被击穿，形成弧电流，这与电焊的引弧相类似。此时，部分N2发生离化，形成氮的阳离子以及电子。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性气，在放电电场作用下部分气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。PVD技术四个工艺步骤(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出。
增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为，并且可以过滤掉大颗粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
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