洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如
无尘室设备
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100
um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
空气洁净度等级标准及规范：
经济和科技发达的和地区都有自己的空气洁净标准和规范标准，都规定了有关的洁净度等级，例如美国、日本、西欧、北欧、俄罗斯等。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。我国于1984年颁布《洁净厂房设计规范》(GBJ73-84)，1996年该规范进行了较大的修改，1990年颁布《洁净室施工及验收规范》(JGJ71-90)以指导施工和验收的重要文件。该规范在重新修订中。
无尘室温湿度波动大是不是和SCR有关系？
判断物品是否可以带进无尘室，主要依据是该物品的发尘量，是否持续发尘，以及是否容易附着灰尘。工具箱一般是金属或塑料质地，擦拭干净后发尘量并不大，也不容易附着灰尘，所以一般是可以带进的。
当然具体情况还要看各个使用部门的规定，以及无尘室的级别。如果级别比较高的无尘室，应该也是不可以的。级别低的无尘室可以带入，但也应该在使用完毕后及时带出。
尽可能选择历史悠久的名1牌滴丸机制药机械企业，质量上有保障。送风机可按净化空气调节系统的总送风量和总阻力值进行选择，中效、高1效空气过滤器的阻力宜按其初阻力的两倍计算。选择技术成熟、质量稳定的机型，使包装更快更稳，低耗能、低手工、低废品率。制药机械是耗材机子，如果购进低质机器，在今后的日常生产中日积月累浪费的包装膜，决定不是个小数目，特别是现在包装材料的上涨。
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