化学抛光液温度的变化，会直接影响被抛光制件表面上凸峰和凹谷的活化-钝化-活化的交替进行。 化学抛光和电解抛光除了能得到表面光滑和光泽之外，也有其他的应用效果，例如消除表面的冷作硬化层，减少显微毛糙，改善摩擦，减少磨损量，去除锐棱，消除毛刺，提高导磁率，减少磁耗等。 控制化学抛光时间恰到好处，可获得满意的工艺效果。若抛光时间过短，则得不到预期的光洁度。抛光时间过长，特别是
