ZF500有机蒸发镀膜机
广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
系统组成:
主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4
真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm
样品台：尺寸为4英寸4平面样品；
有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；
样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）
4套挡板系统：动密封手动控制；
样品挡板（１套），磁力拨叉，
膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
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派瑞林镀膜工艺介绍
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派瑞林镀膜工艺，是一种气相沉积CVD的镀膜方式。其工艺过程如下：首先固态的派瑞林原料在蒸发腔内随着温度的升高逐渐吸热升华；升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，300A蒸发镀膜机，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性Parylene单体；Parylene单体被送到室温的真空沉积室里，在工件表面进行聚合沉积，形成一层致密的保护膜层。
派瑞林涂层在磁性材料上的应用
随着信息产业的不断发展，磁性元件越来越趋向于小型化，传统的电镀或环氧电泳漆等防护方式，已无法对其实现可靠的防护。小型软磁芯作饶线器件时，磨损中心很容易使磁性绕组电线失去绝缘性。派瑞林不仅能克服这一缺陷，而且形成耐摩擦的内表面，这样可加速延展和绕组过程。同时可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能。Parylene的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点多方位涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，起到非常好的防锈、耐盐雾腐蚀的作用。目前国际上小型超小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。
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