脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,脉冲激光沉积设备价格,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,脉冲激光沉积设备多少钱,可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外,脉冲激光沉积设备,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。
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脉冲激光沉积系统配置介绍
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脉冲激光沉积系统配置:
生长室,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED,工作气压可达100Pa可预留法兰,用于LEED,K-Cell, E-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,脉冲激光沉积设备报价,掩膜系统等。
脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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