传感器逆向分析北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司原名为北京埃德万斯离子束技术研究所，成立于2001年，自主独立设计了离子束刻蚀设备和双离子束溅射沉积镀膜设备，其自主设计的考夫曼离子源稳定性≤±3%，镀膜均匀性≤±5%，工件台采用水冷控温系统，温度可以控制在5℃~25℃，可低温成膜。采用离子束溅射镀膜设备加工的薄膜附着力很强、均匀性好、致密度高，可合成新功能复合型薄膜。基于这两套离子束技术应用设备，结合新材料传感器逆向分析结果，埃德万斯可提供新材料传感器工艺研发服务。传感器逆向分析
北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司原名为北京埃德万斯离子束技术研究所，成立于2001年，自主独立设计了离子束刻蚀设备和双离子束溅射沉积镀膜设备，其自主设计的考夫曼离子源稳定性≤±3%，镀膜均匀性≤±5%，工件台采用水冷控温系统，温度可以控制在5℃~25℃，可低温成膜。采用离子束溅射镀膜设备加工的薄膜附着力很强、均匀性好、致密度高，可合成新功能复合型薄膜。
基于这两套离子束技术应用设备，结合新材料传感器逆向分析结果，埃德万斯可提供新材料传感器工艺研发服务。
